베트남 오늘의 주요 뉴스

베트남 정부의 첨단기술, 반도체, AI 기업 대상의 투자 지원 기금 설립

보다비엣 : 베트남을 보다 2025. 3. 12. 13:39

2025/03/03

 

베트남 정부는 투자 지원 기금의 설립, 관리 및 운영에 관한 시행령 제182/2024/ ND-CP호를 발행하였습니다.

2024년 12월 31일, 정부는 투자 지원 기금(“기금”)의 설립, 관리 및 운영에 관한 시행령 제182/2024/ND-CP호(“시행령”) 를 공식적으로 발행하였습니다. 본 기금은 베트남에서 일정 요건을 갖춘 투자 프로젝트를 수행하는 기업을 직접 지원하기 위해 설립되었습니다.

기금의 재원은 국가 예산에서 조달되며, 기획투자부(Ministry of Planning and Investment)에서 운영합니다.

 

본 시행령은 두 가지 유형의 지원을 규정하고 있습니다.:

 

(i) 연간 비용 지원:

기금은 첨단 기술(High-tech) 분야 및 연구 개발(R&D) 센터의 기업 및 투자 프로젝트에 대해 연간 재정 지원을 제공합니다.

 

(ii) 초기 투자 비용 지원:

반도체 산업 및 인공지능(AI) 분야의 연구개발(R&D) 센터 프로젝트를 수행하는 기업을 대상으로 초기 투자 비용을 지원합니다.

각 기업 또는 프로젝트는 최대 5년간 비용 지원을 받을 수 있으며, 총리의 결정에 따라 연장될 수 있습니다. 이 지원금은 법인세(CIT) 면제 대상입니다.

 

(1) 연간 비용 항목에 대한 지원

납세자는 다음과 같은 비용에 대한 지원을 받을 수 있습니다.

 

● 교육 및 인적 자원 개발 비용: 베트남인 직원의 교육 및 역량 개발을 위한 연간 실제 발생 비용의 최대 50% 까지 지원.

● 연구개발(R&D) 비용: 연구개발(R&D) 총비용 및 개별 납세자의 상황에 따라 연구개발 적격 비용의 1%~30% 지원

● 고정자산 투자 비용: 신규 고정자산 비용의 1%~10% 및 일정 기준을 충족하는 프로젝트의 총 투자 자본의 최대 0.5% 까지 지원     (고정자산 비용 및 납세자별 기준에 따라 차등 적용)

● 첨단 기술 제품 제조 비용: 매출 규모, 인적 자원 및 개별 납 세자의 상황에 따라 국내 부가가치 생산 비용의 1%~3% 지원. 첨단  기술 제품의 부가가치는 판매된 모든 첨단 기술 제품의 원가에서 해외 로열티/기술 이전 비용 및 수입 원자재 비용을 제외한 비용으로 산정됨.

● 사회 인프라 투자 비용: 관련 규정에 따라 사회 인프라 건설 을 위해 연간 실제 발생 비용의 최대 25% 지원

 

(2) 초기 투자 비용 지원

기업은 프로젝트의 초기 투자 비용 중 최대 50%까지 지원을 받을 수 있으며, 지원은 관련 원칙을 준수해야 합니다.

 

(3) 행정 절차

● 신청 기한: 지원 신청 대상 회계연도의 다음 해 7월 10일까 지 납세자는 지원 신청서를 제출해야 합니다.

● 재무제표 감사: 납세자의 재무제표는 베트남 증권위원회 (State Securities Commission of Vietnam)가 공표한 적격 감사법인 명단에 포함된 독립 감사법인에 의해 감사되어야 합니다. 또한, 지원 신청과 관련된 비용 보고서 역시 독립 감사법인의 감사를 받아야 합니다.

● 신청서 접수 및 검토 기관: 경제구역, 산업단지, 첨단기술단지 관리위원회 또는 지방 기획투자국 (경제구역, 산업단지, 첨단기술단지 외부에 위치한 프로젝트의 경우) 관련 지방 인민위원회(Provincial People's Committee)에 신청서가 제출되어야 하며, 인민위원회는 기업의 투자 지원 신청을 취합한 해당 연도의 10월 1일까지 기금 관리 기관(Fund Management Agency)에 보고해야 합니다. 최종 지원 승인 여부는 정부가 결정합니다

● 예산 초과 시 지원 조정: 요청된 총 지원 금액이 기금의 예산 을 초과할 경우, 경제 및 사회적 기여도를 고려하여 지원 금액이 조정될 수 있습니다.

 

투자 지원 기금 시행령은 2024 회계연도부터 적용됩니다. 지원 대상 회계연도의 다음 해 7월 10일까지 제출해야 합니다.

 

출처 : https://vanban.chinhphu.vn/?pageid=27160&docid=212199&classid=1&orggroupid=2